蚀刻机和光刻机区别光刻机的制作考虑到那些外在因素
互动2022-08-29 17:05:25
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对于蚀刻机和光刻机区别这个问题感兴趣的朋友应该很多,这个也是目前大家比较关注的问题,那么下面小好小编就收集了一些蚀刻机和光刻机区别相关的知识回答,来分享给大家希望能够帮助到你哦。
1、蚀刻相对于光刻来说要容易一些。
2、光刻机把图案印上去,然后蚀刻机根据印上去的图案蚀刻掉有图案(或者没有图案)的部分,留下剩余的部分。
3、“光刻”是指在涂满光刻胶的晶圆(或者叫硅片)上盖上事先做好的光刻板,然后用紫外线隔着光刻板对晶圆进行一定时间的照射。
4、原理就是利用紫外线使部分光刻胶变质,易于腐蚀。
5、“蚀刻”是光刻后,用腐蚀液将变质的那部分光刻胶腐蚀掉(正胶),晶圆表面就显出半导体器件及其连接的图形。
6、然后用另一种腐蚀液对晶圆腐蚀,形成半导体器件及其电路。
7、蚀刻分为两种,一种是干刻,一种是湿刻(目前主流),顾名思义,湿刻就是过程中有水加入,将上面经过光刻的晶圆与特定的化学溶液反应,去掉不需要的部分,剩下的便是电路结构了,干刻目前还没有实现商业量产,其原理是通过等离子体代替化学溶液,去除不需要的硅圆部分。
本文到此结束,希望对大家有所帮助。
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